推 evilman:也有cl2,CHF3,O2... 10/26 20:11
推 fyb:乾蝕刻用Ar撞擊表面只是佔一部份 主要還是用電漿離子反應 10/26 20:29
→ fyb:電將離子大部分含有劇毒 就是一樓的那些氣體 10/26 20:31
推 fyb:話說PVD是做物理性沉積薄膜 這好像也和乾蝕刻有差喔 10/26 20:34
這位同學看起來有點不太用功喔~~
既然要應徵工作,應該去了解一下所謂的乾蝕刻為何物吧?
不然漢民是vendor,vendor的都是"以戰代訓",到時會很痛苦的喔~~
話說乾蝕刻,就是使用電漿將玻璃基板上的金屬膜給去除,原理和PVD相似
只是乾蝕刻機構比較簡單,其中通入的氣體應該是Ar,應該不會比你說的HF3毒啦
所以乾蝕刻的主角是電漿,不是氣體,和濕蝕刻不一樣,大概就這樣~~
P.S如果PVD和電漿產生原理你也不懂的話,那就真的要多去看看書嘍~
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