推 yeahbo:ArF是193nm 02/03 16:08
※ 編輯: chwu246 來自: 140.116.142.11 (02/03 16:21)
推 kf072205:敢問這位強者大大,貴公司有缺人嗎? 02/03 22:01
推 ihvgogo:曝光程式? 聽起來怪怪的... 02/05 05:46
※ 引述《ooo2 (聯電介紹人...!!)》之銘言：
※ 引述《nodachiaki (期待交響SP)》之銘言：
: ※ 引述《chimori (......)》之銘言：
: : 黃光區的照明跟其他區不一樣, 因為是要濾掉紫外光,
: : 目前是以 KrF Laser打出來的248nm深紫外光 或者 ArF Laser打出來
: : 的193nm深紫外光當光源(i-line stepper就不講了),
: : 而光阻液在Track端coating時, 若有紫外光穿透透明cover影響到光阻,
: : 則曝出來的wafer會挫賽...= =
: : 至於光源的波長, 波長越低能量越高, 所以為了減短曝光時間增加throughput
: : 會以更短波長的光來當光源, 所以目前70nm製程技術用193nm波長的深紫外光
..
: : 話說, 前年本公司將機台抵押給某大銀行來借錢, 因此銀行團人員進Fab拍
照
: : 做產權轉移, 但倒楣的是----銀行人員不懂半導體製程, 拿該死的照相機
: : 開閃光燈往正在run貨的Track機台一照, 掯.........
: : 害得設備工程師追一堆Lot回來rework...
: 想問一下~~~閃光燈是什麼光源呢!!如果他不是紫外光!!
: 何需要REWORK??
: 會讓膚色變黑的是紫外光~所以黃光應該不至於讓膚色變黑吧!!
: 出現黑眼圈應該是工作後壓力大睡眠不足吧!!!!
看到大家的回覆，有點心悸....
不曉得是不是某些DRAM廠的教育訓練做的不夠 ^_^|||
1.黃光區使用短波長的光源不是為了throughput
是為了更好的解析度，也就是能曝出更細的線寬!
真的去看做70nm的曝光程式，會發現它的能量（J）很低。
2.DUV(深紫外光)是白光(全頻光)的一部份，不濾掉會造成光阻的質變，
現主流的正光阻的鍵結會不一樣，造成真正曝光時的不穩定，
影響最後的成像品質！而發生問題的不只是在Track，還包括光阻及
晶片運送等環節，否則只要機台附近用黃光就好了！
3.機台的光源波長由G-line(435nm).H-line(405nm).I-line(365nm)到
KrF(248nm).ArF(193nm)準分子雷射都是在機台內部用FILTER過濾或
附屬機台形成，也不太容許外洩!
PS: 好像有點離題，職業命.....^_*
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