※ 引述《Hao.bbs@aug.csie.ntu.edu.tw (目睭扒乎金啊！)》之銘言：
> 基本上，相位移光罩技術 phase shift mask，和光學近接修正技術 OPC，
> 就我的認知，都沒有突破繞射極限。
> 這兩種技術都是在光罩上調變，
> phase shift mask有好幾種，但調變的都是圖形邊緣處的相位.
> OPC調變的是形狀，例如在圖形角落處加個小耳朵之類的形狀。
> 簡單講，都是對光罩"調整"。
> 如果，黃光製程要類比到攝影的話
> [光罩圖形 成像到晶圓] 可類比為 [被攝景物 成像到底片或CCD]
> 所以 [光罩圖形] 可類比為 [被攝景物]
> 換句話說，以上那些調變光罩的技術，
> 用到攝影來，我們要先去調變被攝景物，.......很怪，很不合理對不對？
> 所以這兩個方法可能要先放棄.
你說的沒錯，我也覺得把目前litho.如何改進解係度的方法拿來和照相類比
是差很多的，不管是移軸off axis illumination, phase shit masks 或
OPC 都是要對既有光罩的投影取得合適的MTF，以取得更好的解析，不是對光源
就是光罩，類比於照相就是光線調變或是景物調變，這是沒可能的吧。
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