==> MengYi.bbs@bbs.ee.nthu.edu.tw (我愛melody~) 提到:
> 你說的沒錯，我也覺得把目前litho.如何改進解係度的方法拿來和照相類比
> 是差很多的，不管是移軸off axis illumination, phase shit masks 或
> OPC 都是要對既有光罩的投影取得合適的MTF，以取得更好的解析，不是對光源
> 就是光罩，類比於照相就是光線調變或是景物調變，這是沒可能的吧。
這是因為半導體相關產業的產值相當高，
因此有相當比例的研究者或業界努力地設法克服微影製程的阻礙，
這些技術，如Hao及MenYi兄所述，
目前沒有辦法也沒有必要性需移植到攝影的鏡頭製作技術上面...
話說回來，步進機內部也具備高度精密的透鏡系統，
製作這些透鏡系統的技術也不見得已全部release出來...
從這個討論串開始，我就在想數位相機本身要怎麼避免繞射效應，
我知道有種透光材料可以靠加電壓來改變材料的折射率及光的相位，
我們甚至可以對景物發出較短波長的光線，再靠反射光成像，
或者未來半導體製程進步，CCD越做越大塊，
繞射現象自然解除....
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