※ 引述《ddcatt.bbs@bbs.ntu.edu.tw (叮噹貓)》之銘言：
: ==> MengYi.bbs@bbs.ee.nthu.edu.tw (我愛melody~) 提到:
: > 你說的沒錯，我也覺得把目前litho.如何改進解係度的方法拿來和照相類比
: > 是差很多的，不管是移軸off axis illumination, phase shit masks 或
: > OPC 都是要對既有光罩的投影取得合適的MTF，以取得更好的解析，不是對光源
: > 就是光罩，類比於照相就是光線調變或是景物調變，這是沒可能的吧。
: 這是因為半導體相關產業的產值相當高，
: 因此有相當比例的研究者或業界努力地設法克服微影製程的阻礙，
: 這些技術，如Hao及MenYi兄所述，
: 目前沒有辦法也沒有必要性需移植到攝影的鏡頭製作技術上面...
: 話說回來，步進機內部也具備高度精密的透鏡系統，
: 製作這些透鏡系統的技術也不見得已全部release出來...
: 從這個討論串開始，我就在想數位相機本身要怎麼避免繞射效應，
: 我知道有種透光材料可以靠加電壓來改變材料的折射率及光的相位，
: 我們甚至可以對景物發出較短波長的光線，再靠反射光成像，
: 或者未來半導體製程進步，CCD越做越大塊，
: 繞射現象自然解除....
這就讓人想到，之前看的英文討論網頁
有人提出來，說現在半導體IC越來越便宜，有很大一部分的原因是
因為晶片越作越小，讓良率提升，此外同一塊晶圓上的晶片數也增加，
來降低平均成本
如今我們希望把CCD做大，那似乎就意味著高成像品質的DC要降價
還有很長的一段路要走.....
(於是又去yahoo上標下一台FM2..)
--
此身飲罷無歸處 獨立蒼茫自詠詩
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.112.245.162