[求救] DTT打斷雙硫鍵

[darkbishop (自由山丘上的春樹)]

大家好

小弟最近做實驗碰壁 想上來請教各位

我做的實驗是將末端帶有HS官能基的DNA修飾在金膜表面

但生技公司提供的是對稱的兩條單股DNA(~~~S--S~~~)

故使用前須加入DTT用以打斷雙硫鍵

看過一篇刊登在small上的論文 裡面說DTT濃度是DNA的10000倍 然後4h incubation

另外去電生技公司博士級專員 他說1000倍 然後至少15min incubation

時間上差蠻多的 濃度也差到10倍 另外也好奇DTT反應速度如何

想聽聽版上先進的意見 作為參考 謝謝大家

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推 xgodtw:樓下你猜marklin的雞雞等下會怎麼樣?
推 marklin:========================會爆==========================
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推 david31408: 兩種條件都試試看呀  最多也就是花4小時時間
→ darkbishop: y糟糕的是看起來都沒修飾上
→ blence: 反應後應該去除DTT才修飾上？
推 Ianthegood: TCEP?
→ darkbishop: 可是我用的是非常微量的體積 應該很難除去DTT