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先上個圖 https://i.imgur.com/nLCotMr.jpg 小弟不懂的點是 為何ion implantation可以處理漏電流問題 我們知道說兩個n+和FOX區 假如FOX上面有連接線(提供大電壓) 電晶體會稍微被打開(FOX下面產生反轉層) 用ion-implantation取代掉FOX(在氧化前)竟然就可以解決漏電流問題? ion-implantation後的區域是低電阻(這樣漏電流不是更多嗎) 希望有大大可以解惑QQ -- 我4manu鐵粉 manu魂不滅 https://imgur.com/msMRnFu -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 223.138.239.147 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Electronics/M.1542879793.A.EBD.html
timmerix: p+本身低電阻 但左右兜了n+就不是 建議從能帶去想 11/22 18:22
timtdsas: 感謝 11/29 11:40