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板上大大好 最近在研讀半導體時有些疑問 關於 汞探針C-V量測半導體阻值 是利用金屬與磊晶層形成蕭特基接觸 而在金屬與磊晶層之間的形成空乏區 藉由改變電壓的大小 電容大小隨之改變 可測得參雜之濃度 請問這裡的空乏區就像電容器內絕緣層的概念嗎 因為非本科系 一點笨問題 還請大大指點 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 123.192.95.238 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Electronics/M.1543756565.A.E8C.html
jfsu: 它是比較像PN-junction 12/02 22:15
jfsu: 但卻是由多數載子主導電流,PN接面是少數載子。 12/02 22:17
jfsu: 公式: https://goo.gl/3ymjxf 12/02 22:18
Schottky: 樓上說得沒錯 12/03 17:57
mmonkeyboyy: 然後太薄就穿過去了 12/03 19:54
laminar: 那請問對於:cv量測首先要先形成MOS結構 這句話有衝突嗎 12/04 09:52
laminar: ?所以對於汞cv量測來說空乏層便是MOS中的O嗎? 12/04 09:52