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半導體的教科書都會寫 在讀MOS電容器的做動原理時 在Metal部分加負偏壓時, Metal部分的費米能階的移動方向是往"上", 同時,Semiconductor部分,連接氧化層的一端的傳導帶、本質能階以及價帶都會一起往" 上"平移, 但遠離氧化層的一端的傳導帶、本質能階以及價帶都不動。 但是Semiconductor部分的費米能階是整個平移 有疑問的地方是: 1.為何在Metal部分加負偏壓時,METAL的費米能階整個都在動 而Semiconductor部分只有連接氧化層的一端的能帶會動 且Semiconductor部分的費米能階整個平移? 物理原理怎解釋? 2.移動方向的問題。 加了負偏壓灌入電子後,為何會往"上"移動 此兩個問題請教各位,謝謝! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 180.217.128.147 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Electronics/M.1550220514.A.107.html ※ 編輯: dry123 (180.217.128.147), 02/15/2019 16:49:53
timmerix: 1. 金屬的電荷只會聚集在接面 沒有內部電子濃度不均的 02/15 18:33
timmerix: 情況 也就是金屬的導帶不會"彎" 02/15 18:34
timmerix: 2. 因為往上代表電子能量越高 加負偏壓對電子來說就是 02/15 18:35
timmerix: 位能高 02/15 18:35
JunDT2008: 費米能階是代表有一半電子數在此之上 02/16 20:16