[新聞] 科林研發推出原子層沉積新設備 開啟半導

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科林研發推出原子層沉積新設備 開啟半導體金屬化的新時代

聯合報

記者 簡永祥

美商半導體設備大廠Lam Research今日宣布推出 ALTUSHalo 設備，這是全球首款利用金
屬鉬的特性來生產先進半導體的原子層沉積（ALD）設備。藉由多項專利創新技術，
ALTUS Halo 可為先進半導體元件提供卓越的低電阻率金屬填充、以及無空隙鉬金屬化的
高精度沉積。ALTUS Halo 目前正與所有領先的晶片製造商進行驗證和試量產，它標誌著
半導體金屬化新時代的轉折點，將為未來人工智慧、雲端運算和下一代智慧元件所需的先
進記憶體和邏輯晶片的微縮奠定基礎。


ALTUS Halo 是科林研發 ALTUS 產品系列的最新成員，也是其差異化產品組合的一部分，
可協助晶片製造商克服業界一些最困難的微縮挑戰。此外，科林研發亦同步發表業界最先
進的導體蝕刻機台 Akara®。


科林研發全球產品事業群資深副總裁 Sesha Varadarajan 表示：「以科林研發深厚的金
屬化專業技術為基礎，ALTUS Halo 是 20 多年來原子層沉積領域的最重大突破。它結合
了科林研發的 Quad-Station 模組架構和 ALD 技術的新進展，可為大量生產提供精準的
低電阻率鉬沉積 — 這是新興和未來晶片突破的關鍵要求，包括 1,000 層 3D NAND、
4F2 DRAM 和先進的環繞式閘極邏輯元件。」


科林研發表示，ALTUS Halo 提供半導體產業最精確、最先進的鉬沉積技術。ALTUS Halo
機台系列針對一系列金屬化需求進行了最佳化，透過化學和導熱的靈活性以及電漿作用於
對溫度敏感的元件應用，實現由下而上選擇性沉積或等覆蓋性的填充。


美光NAND 開發企業副總裁 Mark Kiehlbauch 表示，鉬金屬化的整合使美光科技能夠率先
向市場推出領先業界 I/O 頻寬和儲存容量的最新世代 NAND 產品。科林研發的 ALTUS
Halo 設備使美光將鉬投入量產成為可能。」

https://udn.com/news/story/7240/8567972


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→ frommr: 良率ㄋ~
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→ d0089145: ALD是設備有什麼良率?
推 jim543000: 有啊 前後站掃defect