[問題] PEALD機台

[kurtgod (kurt神)]

這問題感覺是發在物理版較適合XD

目前服務的公司客戶有個需求

要鍍Al2O3的film去做封裝

我問了為什麼不用公司現有的PECVD或是ALD就好(RD就說PEALD較佳)

公司目前的PEALD也還沒組出來

所以只能委託實驗室或研究機構代工

條件如下

厚度約20~40nm

製程溫度需控制在80-100度C

有問過成大光電的老師 他的PEALD是200~300度C之間

目前有查到台大材料陳敏璋教授有這設備 但還沒詢問

不知有沒有對這機台了解的板友知道哪個學術機構有這設備可代工?

以上

感謝版友回答

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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 59.127.26.186
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Physics/M.1499158441.A.D20.html
推 boson5566: 陳的溫度也是200~300左右 之前長過一次低溫就壞了
→ hank780420: 有問過NDL嗎?
陳的溫度也是這麼高喔？
問個蠢問題
溫度不是可以自行控制嗎？

NDL只有ALD......

我朋友說他們公司有 但是是TSMC.....來亂的.....
※ 編輯: kurtgod (42.77.213.162), 07/05/2017 19:17:46
→ boson5566: chamber都有最佳條件 突然改變溫度會讓條件不穩
→ yeahbo: ALD的反應溫度通常就是200~300度C，你想要降到80~100度C
→ yeahbo: 就是要靠PEALD才"有機會"，而且要找到機器有特別調過的
→ hank780420: 這麼低溫應該不好找  80度可能都比某些機台管線持溫
→ hank780420: 還低了
→ yeahbo: TMA還好啦，記得室溫還是低溫就可以有足夠蒸氣壓了