[新聞] ASML：摩爾定律沒有減速或失效，還將持續

[Su22 (裝配匠)]

原文標題：ASML：摩爾定律沒有減速或失效，還將持續 10 年或更久時間
                                      (請勿刪減原文標題)  
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                                      (請善用縮網址工具)
發布時間： 2021 年 03 月 29 日 17:40
                                      (請以原文網頁/報紙之發布時間為準)


原文內容：

眾所周知，荷蘭商艾司摩爾（ASML）曝光機一直是半導體製造的關鍵設備，尤其獨家生產
的極紫外光曝光機（EUV）更是不可或缺，也是協助台積電、三星、英特爾能往先進製程
發展的重要設備，美國限制中國無法取得 EUV，使中國半導體發展始終落後其他國家。

半導體生態系佔據如此關鍵位置的 ASML，究竟是什麼公司也引發外界好奇。《路透社》
專訪技術開發副總裁 Tony Yen，與 Tony Yen 對談讓外界了解，ASML 的經營、文化、產
品發展。

問：您如何描述 ASML EUV 及功能。

答：我們製造的機器是曝光工具，生產每個人都需要的晶片。目前台積電、三星、和英特
爾是我們的三大客戶。

問：ASML 為該領域的領導者，具備哪些要素？顯然有入門障礙，如前期成本和技術技能
。但為什麼其他公司不能複製？

答：ASML 根植於荷蘭文化，公司的決心、工程師的組成、管理層和客戶是成為領導者的
因素。

荷蘭人口雖然只有 1,700 萬，但公民都受過高等教育。ASML 擁有許多博士和碩士學位員
工，且公司非常國際化，餐廳可聽到各種語言交談，包括中文、俄文、東歐文、西班牙文
、義大利文、德文等。

因國際化特性，員工被公司文化吸引，這非常重要，將使公司注重結果，且由技術帶動的
發展容易實現。公司高階領導人都擁有物理學博士學位或物理學家學位，在 ASML 扮演關
鍵角色。他們幫助 ASML 透過物理學常識發展特殊設備機械，包括提供先進晶片使用的
 EUV 曝光機，這是 ASML 成為領導者的關鍵之一。

問：ASML 何時開始考慮發展 EUV？

答：大概始於 2000 年，公司決定大量開發與生產曝光機。當時日本廠商沒有做，因覺得
 EUV 系統非常複雜，且無法確保 EUV 設備 100% 起作用。

ASML 有德國合作夥伴蔡司（ZEISS），生產光學系統為主，歷史可追溯到 1850 年。
ASML 與蔡司合作，蔡司專門為 ASML 製造光學系統。ASML 也為蔡司許多開發提供資金，
因此蔡司只能出售半導體相關光學系統給 ASML。ASML 還收購了美國聖地亞哥 Cymer，這
是使 EUV 發揮作用的另一家關鍵廠商。

問：ASML 如何將產品推廣到市場，且之後生產出符合需求和規格的產品？

答：從早期開發階段開始，兩者是相互的。客戶採用 ASML 早期設備，可靠性不高，這些
機器有 50% 時間是停機狀態，卻能提升生產晶片所需的功能。如果客戶提升晶片生產，
或生產更小的晶片，就必須選擇 ASML 的機器，但當時這些機器不是必要設備。

第一台 EUV 於 2010 年送交三星，2011 年送交台積電，這些都是早期機器。ASML 經歷
許多研發，且也讓客戶知道 ASML 長期參與客戶開發產品的過程，讓他們對我們設備有信
心。對最早期的客戶，ASML 將開發工具放在客戶端，並物理上與客戶共同開發技術，互
相合作的基礎上，開發出達到客戶需求的產品。

問：可說明先進製程 7 奈米、5 奈米、3 奈米發展狀況嗎？還有先進製程技術的轉移狀
態？

答：大規模生產最先進製程技術是 5 奈米節點，是台積電和三星目前的技術。英特爾 5
奈米製程節點落後，甚至沒有 7 奈米製程節點大規模生產。必須注意的是，因英特爾有
更高等級的設計規則，因此英特爾 7 奈米節點相當於台積電和三星的 5 奈米節點。相關
技術並非完全一模一樣，很難說哪家產品較優異。

客戶轉向更高級製造流程，一般所需時間約 5 年。ASML 會與客戶相互發展目標，雖無法
透露細節，不過大致上是規劃產品，然後獲得董事會許可開發。一旦產品開發成功進入量
產階段，出口地點不是受管制國或地區，預計 2 年就會運交量產型產品設備。

問：您一定常被問到，且目前情況會加劇的這問題：對摩爾定律到極限有什麼看法？

答：許多人說摩爾定律失效或減速，但我認為沒有，也沒有減速。就 ASML 的看法，摩爾
定律可能還會再延續 10 年，甚至更長。且晶片面積微縮未來還可持續至少 10 年。

人們談論的堆疊是晶片做法，就是所謂的 3D 整合，台積電和三星對此進行很多討論。
ASML 的看法，雖然 3D 整合正在發生，但 2D 平面晶片面積微縮仍至少可持續 10 年。
為此目標，ASML 下一代 EUV 曝光設備也積極開發。

問：ASML 是否考慮投資機器學習或 5G 標準，這將影響市場需求嗎？對 ASML 來說是否
太下游？

答：這距離不算太遠，因蘋果、三星、高通等都在生產 5G 晶片。華為進入實體清單，因
此市場位置被小米和其他中國品牌接收，高通經三星 5 奈米製程生產的高階晶片，目前
進入大量生產，ASML 也在享受美好成果。

問：您對地緣政治有什麼看法？

答：我不是發言人，但 ASML 遵守所有法律。如果我們機器一部分是美國製造，且有人列
入實體清單，我們就必須遵守美國出口法令。

ASML 美國公關經理 Brittney Wolff 補充，這是 ASML 必須非常認真考慮的事，因為在
許多國家地區都有業務。但 ASML 在任何地方發展業務時都遵守當地法令規定，且從來沒
有遇到任何挑戰。


心得/評論：                             ※必需填寫滿20字
摩爾定律真能再戰十年甚至更久嗎?
那續抱台積應該不會錯吧?

不過內文題到INTEL雖然5奈米7奈米落後於台積三星
但 更高等級的設計規則 可以彌補差距?
更高等級的設計規則 是甚麼呢?


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推 strlen      : 1奈米之後勒？0.5奈米？
推 hinanaitenco: 埃米啊
噓 Hyper       : 目前能將摩爾定律持續下去的只有台積電  其他都落後
推 gs13010     : 10埃米
→ mercy       : 3D堆疊
推 koushimei   : 1nm接下來 0.9nm？
噓 zrct5566    : 樓下NMSL調整
推 a98987605   : 99 ASML
推 gigi0419    : 英特爾設計規格較高但無法量產
推 bakayalo    : 摩爾定律一次大概推進30%微縮
推 chouvincent : 感謝輪班星人
推 cowaksor    : 我以為英靠行政命令能搞垮台積 但後來才知道有這想
→ cowaksor    : 法根本蠢
推 nicoro      : 蟻人科技是真的
推 gracefeather: 認真回，耗能減半，或是單位面積效能加倍，不就等
→ gracefeather: 於面積縮小一半？
推 denverkobe  : 搞垮台積又是哪個劇本?
推 oneyear     : 你的問題不就在內文裡?更高的設計規格指的就是牙膏7
→ oneyear     : 奈米=gg 5奈米
推 kixer2005   : 好恐怖
推 mdkn35      : 快來買我大ASML的機器
推 zakijudelo  : 奈米再縮是什麼
噓 abathingape : 亞洲區的薪水超爛的假外商
推 creepy      : 直接買爆ASML
推 fortesv     : 被力積電破解了！
→ shadow0326  : 艾司摩爾定律
推 vaiking0120 : 居然有人用這個來判斷該不該抱台積電 我笑死
→ twinmick    : 歐洲國家給亞洲低薪正常啦，骨子裏根本看不起亞洲人
→ BenJMAS     : 對製程先進程度最敏感的就是手機，先天限制就要求
→ BenJMAS     : 極致的微縮和節能，哪怕只是一點點差距都要盡力追
→ BenJMAS     : 求，不像電腦處理器或顯卡有其他配套方案。
→ BenJMAS     : 所以能精進幾分是幾分。
推 KrisNYC     : I社一直設定電晶體密度比其他人高一倍 這不是秘密
推 Michaeltoe  : 美國限制中國無法取得 EUV，聽到這句真安心~
推 keyber      : 美國怎麼不自己做euv
→ Carter19    : 我看成摩鐵定律，看來該睡了@@
→ Alwen       : 現在效能並沒有每隔18個月就增加一倍
→ Alwen       : 價格也沒下降一半
推 yuyubb      : 愛普