推 ChuchingMan: UV是單獨出來的機台, 通常是在IMPL前的製程 10/31 21:35
推 bear0: 不是用在黃光,用在 TF 氧化薄膜上,使固化沒錯 10/31 21:51
推 lvolingyi: tf 的ultra low k吧 10/31 21:56
推 melzard: To 1&2F, 確實有用在微影製程.後段metal 顯影後可用 10/31 22:03
→ melzard: 用在哪看工廠製程設計上可以有不同選擇 我相信1.2樓看過 10/31 22:04
→ melzard: 的flow確實有人會這樣安排 10/31 22:05
推 melzard: 這種機台的結構設計上相對其他機台簡單一些 因為只做 10/31 22:07
→ melzard: UV照射, 所以run貨速度非常快, 需要監測的參數也較少 10/31 22:08
→ melzard: 但是相對來說如果發生問題也比較難第一時間發現 10/31 22:08
推 lewecool: LK film後的UV Curing 10/31 22:13
推 q169: 填via的洞啦..... 10/31 22:15
推 windbells: 用來detapping? 10/31 22:23
推 marslgj: PE:X!又殘膠了! 10/31 23:29
推 momorabbit: 很多地方有用@@利用不同波段用在不同的地方~ 11/01 00:40
→ Rweiwei: UV curing 要了解到是把什麼原子Cur 出來,半導體通常用D 11/01 00:48
→ Rweiwei: ep之後 11/01 00:48
推 toNpppa: Pm有夠麻煩 11/01 13:44