[討論] FAB 中曝光機 (scanner) 的市佔率

[FTICR (FT-ICR)]

想請問在黃光區的先進問題

一說到曝光機台廠商，原本都只想到 ASML

尤其是在先進製程上，下一代 EUV 大概也得靠他們


不過最近好奇看 NIKON 193i 的機台，才發現性能和 ASML 差不多


以下是兩家最新的193i機台比較：

                  ASML NXT:1980Di  NIKON NSR-S631E
NA                   0.85-1.35           1.35
Resolution            ≦38nm           ≦38nm
Field size           26*33 mm         26*33 mm
Overlay
  (Single machine)    ≦1.6 nm         ≦1.7 nm
  (Matched machine)   ≦2.5 nm         ≦2.3 nm
Throughput(96 shots) ≧275 WPH    ≧270 (optional) WPH

Ref:
http://www.nikon.com/products/semi/lineup/pdf/NSR-S631E_e.pdf

https://goo.gl/EhfIsL


請問在業界這兩台都有人在用嗎?

還是先進製程主要仍以 ASML 居多? (N家幾乎都日本半導體廠自用?)


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※ FTICR:轉錄至看板 Electronics                                    03/10 22:38
推 kminer: 看規格就曝的出來要一堆工程師幹嘛
確實也很好奇哪些部分是設備商負責哪些是FAB
推 treeyoyo: ASML居多吧,NIKON 應該是過去dry時代的產物
但這規格是先進製程的，也代表他們有能力做?
https://goo.gl/0nzgfJ 這裡有講一些 Highlights，包含"for 7 nm node"
推 fegat: NIKON還可以賺面板的曝光機 超貴的
曝面板用的應該超大台XD 但resolution應該不用很高?
推 AXby: 有人買Nikon就不會搞到Nikon要裁1000人了
好吧QQ
推 spadeg25620: twin scan & alignment吧
兩家的 Overlay 差不多，確實可能是 dual-stage design 有差
推 louis1704: 谷歌新聞a家市占有九成，減一點也有七八成吧
了解，感謝
→ louis1704: 193還會往下做浸潤式，還有有兩個Chuck,不知道n家的有
→ louis1704: 嗎？如果有，品質穩定嗎?
這就要問實際在用的工程師了...
※ 編輯: FTICR (219.70.186.32), 03/11/2017 01:10:25
推 ardella: 很多東西是spec沒法告訴你的，現在run45為了cost down是
→ ardella: 可以考慮用，但是一般一直做的FAB現在折舊也差不多了，幹
→ ardella: 嘛還要買這種來重新折舊，更何況還要做mixmatch,怎麼算
→ ardella: 都不划算
推 AXby: 面板的市佔Nikon就真的很高 特別是10代以上的超大面板是獨占
推 giggs11s: 在日本半導體廠確實N社和C社的曝光機很多，因為便宜...
→ giggs11s: .
推 iFann: A社強的還有軟體阿..GRIDMA/DOMA
推 henryrita: 別說啦
推 a1zz3: 天后就一堆Nikon
→ zonezone: 在半導體先進製程曝光機方面ASML獨霸，其他都是撿屑屑吃
→ coldbeerhere: 天后nikon都低階dry的
→ pig2014: 當你個版？還是當成台積版？
推 mingchyi: Nikon immersion 機台便宜但可靠度不佳
推 otaru051: 天后宮有n牌泡水機的喔。。。
推 mahament: twin chuck WPH就電爆別家
推 giggs11s: twin stages的throughput不見得比較強，個人覺得差是差
→ giggs11s: 在asml的機差非常的小，還有鏡面不會霧化
推 film: 當年拉開差距，靠的就是twinstage