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各位好~ 小弟有幸錄取國內公司黃光製程RD 但是該公司學習資源不多,加上大家都很忙碌 所以想說自學比較好 想特別針對Overlay control的領域 包含ASML LIS, W3F3 model 數學模型 Aberration 對 Overlay影響 目前我只找到這本書: Principles of Lithography, Third Edition 不知道大家有沒有推薦的書籍~ 英文書籍佳 謝謝大家~ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 150.117.26.141 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1535821228.A.93D.html
ss910126: 錄取 09/02 01:05
※ 編輯: rolems (150.117.26.141), 09/02/2018 01:44:08
Marcus: Burn寫的書 09/02 04:57
fleetwood: 去amazon 找 Harry Levenson的書先了解基礎 09/02 05:24
fleetwood: 再來跟asml application要lens aberration AP KT 09/02 05:25
giggs11s: はじめての半導体リソグラフィ技術 09/02 13:29
giggs11s: 會日文的話,這本很推,岡崎信次寫的書,amazon有賣 09/02 13:29
autoppp: 推g大說的 09/02 17:23