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光阻Photoresist就是照光會反應的材料,沒什麼困難的概念 在半導體上從低階到高階都會有,現在日本市佔大的就高階的光阻 大概佔90%以上,都是信越 JSR TOK 富士軟片跟住友占走 最高階的EUV光阻,信越跟JSR跑在前面。 日本的有機合成經驗多,且材料純度高,做食品或味素的公司做電子 材料也可以賣很好。然後早起就進入光反應樹脂的市場,累積大量開發 與合成經驗當然越走越遠,專利也越寫越多 不過現在光阻的基礎骨幹結構與配方都寫在Paper上,也不是甚麼新東西 材料現在有用MI在模擬,配方與結構遲早被摸出來。 剩下只有繞過專利惹,如果不理專利的話應該難度不會太高。 但是當然會不會只有配方這麼簡單,每個layer的特性都要做調整 差幾奈米的pattern效能天差地遠。 除了配方以外,量產與純化標準都高到不行,雜質含量也是0後面好幾個0的程度 量產製造的與純化要達到這個要求,know how也是很多,連環境也要高等的無塵室才行。 這些也是提早進入市場所累積出來的經驗,現在EUV的技術與貨物出口都要經過日本政府 審查同意,連開發人員都要身家調查才給摸,拿來當貿易武器的東西真的不一樣。 最後,最重要的是,要有FAB給你測,晶片製造商很難讓一個沒有經驗與信賴性的 原料供應商測光阻,不知道品質與量產能力,還沒有實績;如現在EUV的測試因為材料 供應商沒有EUV的tool,只能給有tool的客戶或是實驗室測,整個拉長了開發時間;如果 有新來的供應商應該沒甚麼空間能夠生存。 所以自然就只剩下這些供應商存在了。 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 101.102.210.72 (日本) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1670385914.A.EE6.html
sc1 : 做晶圓代工有產業升級條例晶片法政策補貼 光阻液無 12/07 12:38
sc1 : 日系都是Vendor代理;理工科系進產線三寶是大宗12/07 12:38
abyssa1 : 這個事件應該會讓後進者門檻又拉高12/07 12:59
cityhunter04: 別那麼認真回廢文好嘛 12/07 13:03
magamanzero : 認真的話 上次GG有個材料發生問題的事件 可以看看12/07 13:09
magamanzero : 那會影響良率很嚴重的 12/07 13:09
odahawk : 主管一句話「換了之後出問題誰負責」就不會有人試了12/07 13:36
daredwolf : 推拉12/07 13:36
faniour : 開頭的邏輯,跟EUV就是比較短波的光,沒什麼困難的 12/07 13:41
faniour : 概念有什麼兩樣12/07 13:41
faniour : 根本也不用什麼ML, 你要有評估機台的話平常做的DOE 12/07 13:43
faniour : 就夠了12/07 13:43
就有點不一樣的反應機制,做出能反應的應該還行 難的是能做到符合High pitch或是crtical layer的光阻 評估Tool 材料商買不起,小廟供不了大佛
faniour : 原料純是一回事,做成高分子是另一件事。分子量中12/07 13:52
faniour : 心值、分子量分布要做到幾個標準差內,能穩定的做 12/07 13:52
faniour : 到多窄,配方的生產準度有多高,還有無塵室有多潔淨 12/07 13:52
faniour : 通通影響最後產出。做出來了誰要陪練?有實績線上也12/07 13:52
faniour : 不一定敢換,沒實績的那根本是鬧笑話。 12/07 13:52
對應不同layer有很多配方,大家都是要搶first source啦
ISNAKEI : 概念很簡單 做很難 聚合過程要保持均勻就很難了 12/07 14:04
sc1 : 要做進口替代也是當局出來當召集人再加稅排擠進口12/07 14:35
毛利比你想像的高,加稅應該不太行 ※ 編輯: tobbaco (101.102.210.72 日本), 12/07/2022 15:02:16
wtl : 其實EDA也一樣 軟體做出來半導體廠不跟你合作認證也 12/07 14:53
wtl : 沒用 想當半導體供應商也沒那麼簡單12/07 14:54
victor21835 : 專業12/07 15:59
faniour : 不同製程光阻需要的感度跟穿透深度,跟舊世代的光12/07 18:27
faniour : 阻差異又不是一點點,不是能反應就還行,深寬比、耐 12/07 18:27
faniour : 蝕、模數、直線或挖孔的特性也差蠻多的,這樣子能12/07 18:27
faniour : 當差不多的話,那5或3奈米製程跟22奈米也是差不多12/07 18:27
faniour : 的概念啊,不同的那一點點就是量產跟嘴炮的差別。12/07 18:27
AxerBlizzard: 光阻的光化學雖然是照光交聯,但其實其背後光化學12/07 18:52
AxerBlizzard: 很複雜,光一個OXE-01的光反應文獻都尚未有定論, 12/07 18:52
AxerBlizzard: 其材料背後know how不只在有機合成而已。12/07 18:52
就像有時候code 可以跑跟飛機會飛一樣 ※ 編輯: tobbaco (49.97.29.6 日本), 12/07/2022 19:31:30
faniour : OXE-01都幾年了哪裡還不知道 12/07 19:51
faniour : 一路出到04、05都有了,原廠還被陸廠巴假的 12/07 19:52
faniour : 專利沒寫好被找洞就算了,後來還被超越 12/07 19:54
faniour : oxime ester type後來的專利申請數非常多,變來變去 12/07 20:12
faniour : 大致上就是調整吸收頻譜,調整側鏈去配合溶解性與遷 12/07 20:12
faniour : 移問題,改感度,改善厚膜表現,或是強化表面光交聯 12/07 20:12
faniour : 。但是這是負型光阻的材料,正型用的光酸熱酸還有 12/07 20:12
faniour : 酸放大劑又是另一個世界 12/07 20:12
neil0611 : 最後一點最重要,GG不幫測就真的沒用了 12/07 20:38
faniour : 這些特化用品台灣不一定不能做,光引發劑就有本土 12/07 20:43
faniour : 供應商,但光是靠本土的市場要熬到能開始外銷就很 12/07 20:43
faniour : 難。台商懂得要拿哪些原料來搭配的公司,多半具有 12/07 20:43
faniour : 生產或是根本就只是不做而已,你是小供應商會不會 12/07 20:43
faniour : 怕怕的幹脆不賣或是市場評估完就不玩了。而且越下 12/07 20:43
faniour : 游水又深又冰,給你做出光阻好了,費了各種人脈各 12/07 20:43
faniour : 種資源,砸了一堆錢後,終於通過驗證,價格開他一 12/07 20:43
faniour : 公斤數十萬好了,幾噸幾噸賣淨利能不能賺個幾十億? 12/07 20:43
faniour : 半導體產線一次MO歸咎到材料的問題,賠償責任是幾十 12/07 20:43
faniour : 億到百億,新進廠商口袋要有多深,性格要有多扭曲才 12/07 20:43
faniour : 要玩這種生意? 12/07 20:43
faniour : 對啊,做出來還沒辦法自己測到底怎麼知道做的好不好 12/07 20:44
faniour : ?GG肯測也不會無限制的共享測到的結果,很多使用上 12/07 20:44
faniour : 的問題沒機台根本沒有再現的可能,那要怎麼改? 12/07 20:44
Alone111 : 默克不是也有做光阻? 12/07 21:54
AxerBlizzard: OXE-01雖然出來很多年了,但在照光時的光化學反應 12/07 22:19
AxerBlizzard: 機制一直到去年底都還有新研究論文發表。 12/07 22:19
faniour : 如果有人發表新模型補充過去不足之處,這樣要算得上 12/07 22:41
faniour : 沒有定論等等,那irgacure-907這種老掉牙的東西,前 12/07 22:41
faniour : 幾年有人也發了一些計算的內容,不就也要說過去一 12/07 22:41
faniour : 樣沒有定論?這些東西如果還雲裡霧裡的,就不會有 12/07 22:41
faniour : 陸廠整系列的產品一隻一隻出來。甚至有開發商的專利 12/07 22:41
faniour : 直接講明用什麼計算模型去跑,鍵長應該落在哪個範 12/07 22:41
faniour : 圍比較適合。除了直接預測QY或自由基壽命這種需求, 12/07 22:41
faniour : 大部分情況沒那麼多不確定的地方 12/07 22:41
AxerBlizzard: 新的文獻並不是補足不足的部分,而是提出與先前認 12/07 23:05
AxerBlizzard: 為的躍遷機制所預測的路徑有不同的實驗結果,雖然 12/07 23:05
AxerBlizzard: 這些機制對於大多數情況並不會有很大的影響,但一 12/07 23:05
AxerBlizzard: 些文獻有提到這些機制的差異可能會影響到細微結構 12/07 23:05
AxerBlizzard: 的CD跟LER 12/07 23:05
AxerBlizzard: 半導體化學品不光專利佈局的問題而已,沒有在專利 12/07 23:08
AxerBlizzard: 上的know how 也不少,本土廠商即便追上了能不能進 12/07 23:08
AxerBlizzard: 廠驗證還是另一個問題 12/07 23:08
faniour : 驗證一直以來都是關鍵 12/07 23:14
faniour : 你講的文獻方便給DOI或關鍵字嗎?沒有也沒關係,就 12/07 23:17
faniour : 加減看看,現在不搞這個了 12/07 23:17
faniour : 以光阻類的東西來說,敢寫出來的多半都不怕抄,你 12/07 23:21
faniour : 覺得他逆向工程超強呢還是沒寫的小東西才是真正重點 12/07 23:21
faniour : 呢?這種陰人的細節,靠經驗的know how很多吧 12/07 23:21
sc1 : 叫教授去研發替代品 讓學生去上班工作生活平衡啊 12/08 13:22
sc1 : 讓政府撥預算補貼研發光阻劑研磨劑 12/08 13:23