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重回摩爾定律兩大武器 EUV+三五族成大勢所趨 2016年04月05日 04:09 涂志豪/台北報導 英特爾在14奈米及10奈米製程推進出現延遲,已影響到處理器推出時程,也讓業界及市場 質疑:摩爾定律是否已達極限?不過,英特爾仍積極尋求在7奈米時代重回摩爾定律的方 法,其中兩大武器,分別是被視為重大微影技術世代交替的極紫外光(EUV),以及開始 採用包括砷化銦鎵(InGaAs)及磷化銦(InP)等三五族半導體材料。 摩爾定律能否持續走下去,主要關鍵在於微影技術難度愈來愈高。目前包括英特爾、台積 電、三星等大廠,主要採用多重曝光(multi-patterning)的浸潤式微影(immersion lithography)技術,但當製程技術走到10奈米世代時,高密度的邏輯IC需要進行至少4次 的曝光製程,製造成本自然大幅拉高。 為了解決微影曝光製程的成本問題,半導體大廠近幾年已著手進行EUV微影技術的研發, 近一年來,EUV技術雖然有明顯突破,但在量產上仍未達到該有的經濟規模。不過,根據 EUV設備大廠艾司摩爾(ASML)的說明,今年若能將每日曝光晶圓產能提高到超過1,500片 ,將有助於業界開始採用EUV技術。 英特爾已規畫在7奈米製程開始採用EUV技術,若是可以達到量產經濟規模,則英特爾可望 在7奈米世代重新回到摩爾定律的循環。至於台積電部份,已計畫在7奈米開始進行試產, 若一切順利,將可在5奈米世代開始導入EUV技術。不論英特爾或台積電,EUV量產的時間 點約落在2020年左右。 半導體材料也是延續摩爾定律的重要改變。英特爾已開始試著採用包括砷化銦鎵(InGaAs )及磷化銦(InP)等三五族半導體材料,希望能夠在7奈米之後進行材料上的改變,只要 能重回摩爾定律的循環,英特爾的處理器發展策略就可回到二年循環的軌道。 台積電16奈米開始採用鰭式場效電晶體(FinFET)製程,而10奈米及7奈米世將延續採用 FinFET技術,而到5奈米之後,也已計畫更改半導體材料。據了解,台積電很有可能會在5 奈米世代採用InGaAs的三五族半導體材料,來維持摩爾定律的有效性。 http://www.chinatimes.com/newspapers/20160405000104-260204 -- 三五族等了五十年要起飛了? -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 169.229.223.182 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Tech_Job/M.1460146871.A.2C8.html
Hateson: 一天一台1500片 一小時要run62~63片? 04/09 05:30
check: 還在摩爾定律 記者對科技業的印象只剩過時很久的四個字 04/09 08:19
yof86109: 我怎麼記得我之前看過三五族沒辦法做在大尺寸wafer? 04/09 09:24
PYHsieh: 都快要進入量子的空間還在談摩爾定律? 04/09 10:33
jqp9b: 摩爾定律那裡過時很久? 10nm,7nm,5nm一樣走在這條路上 04/09 11:15
Keelungman: 三五......ㄎ 04/09 11:38
jjkobe: LED做磊晶的有救了 04/09 11:43
bbdd203: 三五族要看MOCVD的機台研發 跟非矽材拉晶技術 04/09 12:21
bbdd203: 我覺得最後什麼記者據了解的部分根本唬爛? 04/09 12:23
bbdd203: 矽基做5nm都還在想 就想做三五族 04/09 12:24
bbdd203: 那台積還賣大腸能給晶元電幹嘛 04/09 12:25
bbdd203: 說錯 是LED賣給晶元 04/09 12:26
ljsnonocat2: 我猜III-V族有可能是直接壘epi在矽基板上 04/09 13:23
ljsnonocat2: 大尺寸用矽作為基材比較可行 經濟 04/09 13:25
ljsnonocat2: 反正元件真正需要的部分也只是最頂上面薄薄一層 04/09 13:32
ljsnonocat2: 沒必要整片都是III-V材料或是光電常用的藍寶石基板 04/09 13:32
ljsnonocat2: 到時物理尺寸應該還是停留在7~10nm 改用"等效尺寸" 04/09 13:37
jjkobe: 是用三五族來做通道而已,達成高電子電洞遷移率而已 04/09 14:22
tom520katie: 免啦,交給EUV就好了,快量產了 04/09 15:36
HFET: 看到 III-V 只能ㄎㄎ惹 04/09 16:28
jumpout: 台積還是有在弄LED 只是收回內部低調做(小聲) 04/09 17:43